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新闻中心
半导体抛光 W0.1(100nm)氧化锆抛光粉
发布时间:2024-04-26        浏览次数:19        返回列表

  半导体抛光  W0.1(100nm)氧化锆抛光粉

晶瑞新材料有限公司 186 2016 2680,微

CAS#:1314-23-4

性质:

纳米二氧化锆抛光粉为高纯度白色粉末,是不锈钢,玻璃、水钻、水晶、金属、各种石材系列精抛纳米材料。该产品具有以下优越性能:

1、晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;

2、磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好;

3、研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,切削力强、出光快、能抛出均匀而明亮的光泽。

4、粉体添加抛光专用分散剂,制成的分散液经长时间放置不影响二次使用。

技术指标:

型号 VK-R100F

晶型 单斜

平均粒径 100nm

纯度 99.9

比表面积 15±3

 有多种粒径的,也有氧化锆抛光液出售

◆用途

人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光(机器抛光、

滚动抛光)、手动抛光(研磨抛光)等。

铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。

金属表面抛光。

抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石,大理石、花冈岩、水晶、光学的表面抛光。

汽车油漆打磨抛光,手机外壳油漆抛光等。

产品使用特点:

此产品分散性好,通过研磨的方式分散制成浆料,稳定性好,不形成硬沉可以

长期放置。

此产品用于不锈钢制品、石材宝石抛光,镜面效果好,无划伤,抛光快。

包装:25kg/桶